Kontrol oksidasi permukaan partikel tungsten adalah tautan utama dalam memastikan kinerja mereka dan memperpanjang masa pakai mereka. Tungsten sangat mungkin membentuk lapisan oksida di udara atau lingkungan suhu tinggi. Lapisan oksida ini tidak hanya akan secara signifikan mengurangi konduktivitas dan sifat mekanik tungsten, tetapi juga akan memiliki dampak buruk pada proses pemrosesan selanjutnya. Oleh karena itu, dengan membentuk film pelindung yang padat, seperti tungsten oksida atau lapisan inert lainnya pada permukaan partikel tungsten, terjadinya proses oksidasi dapat dicegah secara efektif, sehingga memperpanjang masa pakai tungsten. Selain itu, menggunakan proses perlakuan panas di bawah vakum atau atmosfer lembam, ketebalan dan struktur oksida permukaan dapat disesuaikan dan kinerja partikel tungsten dapat dioptimalkan lebih lanjut.
Teknologi pelapisan permukaan adalah salah satu cara penting perlakuan permukaan partikel tungsten. Dengan menutupi permukaan partikel tungsten dengan logam atau bahan non-logam, fluiditasnya, resistensi oksidasi, sifat pembasahan dan sifat ikatan dengan bahan lain dapat ditingkatkan secara signifikan. Misalnya, bahan logam pelapis seperti titanium, aluminium atau tembaga dapat meningkatkan gaya ikatan mekanis partikel tungsten dan meningkatkan dispersi dan kekuatan ikatan antarmuka dalam bahan komposit. Bahan clad non-logam seperti alumina, silikon oksida atau lapisan karbida dapat memberikan resistensi suhu tinggi yang sangat baik, resistensi korosi dan sifat isolasi, dan banyak digunakan dalam kemasan elektronik dan bahan resistansi suhu tinggi. Deposisi pelapis yang seragam dapat dicapai melalui proses canggih seperti pengendapan uap kimia (CVD), deposisi uap fisik (PVD), atau sol-gel, dan pelapis permukaan berkualitas tinggi dapat diperoleh.
Modifikasi permukaan partikel tungsten juga mencakup pengobatan fungsionalisasi, yang bertujuan untuk memberikan fungsi spesifik pada partikel tungsten untuk memenuhi kebutuhan aplikasi khusus. Dalam bidang katalisis, efisiensi katalitik dan selektivitas dapat secara signifikan ditingkatkan dengan memperkenalkan situs aktif atau gugus fungsional pada permukaan partikel tungsten. Dalam industri elektronik, untuk meningkatkan konduktivitas partikel tungsten atau untuk mencapai regulasi sifat isolasi, kinerjanya dalam perangkat elektronik dapat dioptimalkan dengan memperkenalkan kelompok fungsional spesifik atau menyesuaikan keadaan muatan permukaan. Dalam penerapan bahan struktural suhu tinggi, pengenalan pelapis keramik tahan suhu tinggi atau bahan berbasis karbon pada permukaan dapat secara efektif meningkatkan ketahanan panas dan resistensi oksidasi partikel tungsten.
Teknologi perlakuan permukaan secara signifikan meningkatkan pembasahan dan dispersi partikel tungsten, yang sangat penting dalam persiapan bahan komposit atau bahan pelapis. Dengan memperkenalkan gugus hidrofilik atau hidrofobik pada permukaan, kompatibilitas partikel tungsten dengan bahan matriks dapat disesuaikan, memastikan dispersi seragam mereka dalam bahan komposit, menghindari aglomerasi dan pemukiman, sehingga meningkatkan kinerja keseluruhan bahan. Penggunaan teknologi fungsionalisasi permukaan juga dapat mengurangi energi antarmuka antara partikel tungsten dan komponen lainnya, meningkatkan kekuatan ikatan antarmuka, dan meningkatkan sifat mekanik dan daya tahan bahan komposit.
Selain itu, perlakuan permukaan partikel tungsten juga melibatkan peningkatan keausan dan resistensi korosi. Dalam pemrosesan mekanis atau lingkungan keausan yang tinggi, partikel tungsten penguatan permukaan dapat secara signifikan memperpanjang masa pakai mereka. Melalui penguatan permukaan lapisan keramik, lapisan karbonisasi atau lapisan paduan logam, kekerasan dan ketahanan aus partikel tungsten tidak hanya ditingkatkan, tetapi juga secara efektif menahan korosi eksternal seperti korosi asam dan alkali dan oksidasi, memastikan stabilitas dan keandalan partikel tungsten dalam lingkungan yang ekstrem. Ini sangat penting untuk penerapan tungsten dalam kedirgantaraan, energi nuklir, metalurgi dan industri suhu tinggi.
